哈西奈德乳膏

硼酸洗液

哈西奈德。化學名：16a，17-[(1-甲基亞乙基)雙(氧)]-11β-羥基-21-氯-9-氟孕甾-4-烯-3，20-二酮。

本品每毫升含硼酸30毫克，輔料為：純化水。

天津太平洋制藥有限公司

上海運佳黃浦制藥有限公司

國藥準字H12020812

國藥準字H31022883

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

消毒防腐藥，用于沖洗小面積創面與黏膜面。

外涂患處，每日早晚各一次。

外用沖洗或濕敷。濕敷時，用6-8層紗布浸于本品冷溶液中，輕擠壓后，敷于患處，5-10分鐘后更換，連續使用1小時。每日重復上法4次。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張(尤其面部)、皮膚萎縮、萎縮紋(青少年易發生)皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應(參看注意事項)。

偶有輕微刺激。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

消毒防腐藥，用于沖洗小面積創面與黏膜面。

1. 避免接觸眼睛和其他黏膜；2. 孕婦和哺乳期婦女慎用；3. 兒童使用需遵醫囑；4. 皮膚破損處不宜使用；5. 使用期間如出現過敏反應應立即停藥。

1. 避免接觸眼睛和皮膚；2. 操作時需佩戴防護手套和護目鏡；3. 使用后徹底清洗雙手；4. 儲存于兒童無法觸及的地方。