哈西奈德乳膏

復方硫黃乳膏

哈西奈德。化學名：16a，17-[(1-甲基亞乙基)雙(氧)]-11β-羥基-21-氯-9-氟孕甾-4-烯-3，20-二酮。

硫磺、硼砂。

天津太平洋制藥有限公司

浙江一新制藥股份有限公司

國藥準字H12020812

國藥準字Z33020558

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

解毒、殺蟲、療瘡、止癢。主用于疥癬、濕疹等皮膚病及脂溢性皮炎 。

外涂患處，每日早晚各一次。

外用，用水溶解后洗滌患處。本品亦可用于洗澡、洗頭。

少數患者涂藥部位的皮膚發生燒灼感、刺痛、暫時性瘙癢，長期應用可發生皮膚毛細血管擴張(尤其面部)、皮膚萎縮、萎縮紋(青少年易發生)皮膚萎縮后繼發紫癜、瘀斑、皮膚脆弱、多毛癥、毛囊炎、粟丘疹、皮膚脫色、延緩潰瘍愈合，封包法在皮膚皺褶部位容易繼發真菌感染。經皮膚吸收多時，可發生全身性不良反應(參看注意事項)。

對硫磺過敏者禁用。

接觸性濕疹、異位性皮炎、神經性皮炎、面積不大的銀屑病、硬化性萎縮性苔蘚、扁平苔蘚、盤狀紅斑性狼瘡、脂溢性皮炎(非面部)肥厚性瘢痕。

解毒、殺蟲、療瘡、止癢。主用于疥癬、濕疹等皮膚病及脂溢性皮炎 。

偶見皮膚刺激，瘙癢和燒灼感。

1. 避免接觸眼睛和其他黏膜；2. 孕婦和哺乳期婦女慎用；3. 兒童使用需遵醫囑；4. 皮膚破損處不宜使用；5. 使用期間如出現過敏反應應立即停藥。

尚不明確。請仔細閱讀說明書并遵醫囑使用。