復方醋酸地塞米松乳膏

哈西奈德涂膜劑

本品為復方制劑，每克含醋酸地塞米松0.75毫克，樟腦10毫克，薄荷腦10毫克。輔料為羥苯乙酯、香精、十六醇、液狀石蠟、單硬脂酸甘油酯、硬脂酸聚烴氧（40）酯、甘油、乙二胺四乙酸二鈉、卡波姆、碳酸氫鈉、純化水。

本品主要成分及其化學名稱為：氯氟舒松。其化學名稱為：21-氯-9-氟-11β，16α，17-三羥基孕甾-4-烯-3，20-二酮環-16，17-與丙酮結合成半縮醛。其結構式為：分子式為：C24H32CIFO5分子量為：454.97

福元藥業有限公司

天津金耀藥業有限公司

國藥準字H34022251

國藥準字H10910061

用于局限性搔癢癥、神經性皮炎、接觸性皮炎、脂溢性皮炎以及慢性濕疹。

激素類藥，適用于皮膚過敏性炎癥的亞急性或慢性階段，如濕疹、異位性皮炎、接觸性皮炎等；非感染性皮膚病，如銀屑病、神經性皮炎、結節性瘙癢等。

皮膚外用。每日1～2次，取少量涂于患處，并輕揉片刻。

涂于患處，每日1～2次。

1.患處已破潰、化膿或有明顯滲出者禁用。2.病毒感染者（如有皰疹、水痘）禁用。

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兒童注意事項： 應為面積，短期應用，一旦消退迅速停藥，一歲以內兒童盡量不用此藥。 妊娠與哺乳期注意事項： 尚無人局部用藥致畸作用的研究，妊娠期應慎用。外用經皮吸收大量時可從乳汁排泄，哺乳期慎用。 老人注意事項： 遵醫囑。

用于局限性搔癢癥、神經性皮炎、接觸性皮炎、脂溢性皮炎以及慢性濕疹。

激素類藥，適用于皮膚過敏性炎癥的亞急性或慢性階段，如濕疹、異位性皮炎、接觸性皮炎等；非感染性皮膚病，如銀屑病、神經性皮炎、結節性瘙癢等。

長期大量使用可繼發細菌、真菌感染，局部可發生痤瘡、酒渣樣皮炎、皮膚萎縮及毛細血管擴張，并可有瘙癢、色素沉著、顏面紅斑、創傷愈合障礙等反應。偶見過敏反應。

本品為腎上腺皮質激素類藥物，局部外用具有抗炎、抗過敏及抗瘙癢作用。

1、避免接觸眼睛和其他黏膜（如口、鼻等）。2、孕婦、哺乳期婦女慎用。3、不宜大面積、長期使用：用藥1周后癥狀未緩解，請咨詢醫師。4、用藥部位如有燒灼感、紅腫等情況應停藥，并將局部藥物洗凈，必要時向醫師咨詢。5、如并發細菌或真菌感染，請咨詢醫師處理。6、運動員慎用。7、小兒避免使用。8、對本品過敏者禁用，過敏體質者慎用。9、本品性狀發生改變時禁止使用。10、請將本品放在兒童不能接觸的地方。11、兒童必須在成人監護下使用。12、如正在使用其他藥品，使用本品前請咨詢醫師或藥師。

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